DNP　オランダに海外初の研究開発拠点を開設へ　光電融合技術の開発を加速

【2025年7月21日】大日本印刷（DNP）は2025年9月、海外初となる研究開発拠点をオランダのハイテクキャンパス アイントホーフェンに開設する。

同所はグローバルな研究開発の推進とイノベーション加速を目的に開設されるもので、DNPは、次世代半導体の技術として注目される光電融合（Co-Packaged Optics）の研究開発を推進する。
2025年7月3日には、オランダ応用科学研究機構（TNO）と光電融合に関する共同研究契約を締結。キャンパス内にあるフォトニックチップ（光ICチップ）の研究組織PITCと連携し、3年間の共同研究に取り組む。

拠点が置かれるハイテクキャンパス アイントホーフェンは、約300の企業や研究機関、12,500人以上の研究者・技術者・起業家が集まるヨーロッパ有数のイノベーション拠点。

DNPでは近年、生成AIの普及やDXの進展により情報流通量が急増し、データセンターの電力消費が社会課題となるなか、光電融合はその解決策として期待されている。
同社は中期経営計画で「半導体関連」を注力領域に掲げており、光回路と電気回路を統合するパッケージ部材の開発を進めている。今回の拠点設立により、光学材料の精密パターニング技術など、最先端技術の獲得とパートナー企業の開拓を目指す。

今後は、ハイテクキャンパスでのオープンイノベーションを通じて光電融合に限らず新たな事業創出を推進するとともに、オランダ以外での研究拠点の設立も視野に入れ、グローバルな研究開発体制を強化していく。